時代遅れのリソグラフィー機械は中国に販売できません！米国がオランダのASMLに不当な圧力をかけ、国産チップが再び抑制される

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国内の独立系チップ業界は、悪い知らせを受け取ったばかりだ。

米国は、半導体リソグラフィー装置メーカーASMLが中国にリソグラフィー装置を輸出するのを阻止するため、オランダに再び圧力をかけた。

今回は最先端の設備だけでなく、最大7nmのプロセスでチップを生産できる製造能力を持つ、 DUV技術を使用した前世代のリソグラフィーマシンも使用されています。

しかし、5nm以下のプロセスでチップを製造できるEUV露光装置は、米国の圧力により2年前にはすでに輸入できなくなっていた。

アメリカはまた小さな動きを見せているのか？

このニュースはブルームバーグから届いた。事情に詳しい関係者によると、米国は世界最大のリソグラフィー機器メーカーであるASMLが中国へのリソグラフィー機器の輸出を禁止することを期待して、オランダ政府にロビー活動を行っているという。

今回関係する技術は依然として旧式のDUVリソグラフィー装置であり、7nm以上のプロセスでしかチップを製造できない。

米国政府の行動は、1か月以上前、ドン・グレイブス米国商務副長官がオランダを訪問したときに始まったと報じられている。

訪問中、グレーブ氏はASML本社も訪問し、ASMLのCEOであるピーター・ヴェニンク氏と会談した。

一方、日本のニコンもDUV露光装置の製造能力を持っていることから、オランダに加え、日本政府も米国から圧力を受けているとの報道もある。

上記のニュースに対し、米国商務省とオランダ外務省はともにコメントを控えた。

この事件に関与したASML社とニコンは、何ら実質的な反応を示していない。

このニュースが報じられた後、ASMLの米国預託証券は8.3%も下落したが、現在は3.87%まで戻っている。

しかし、もしこのニュースが真実なら、それは米国が中国の半導体産業を完全に遮断していることを意味する。

結局、7nm以下のプロセスサイズのチップを製造できるEUVリソグラフィー装置は、米国政府の圧力により、早くも2020年初頭に中国への輸出が禁止された。

現在、中国が独自に製造できるチップ製造プロセスはまだ28nmである。

より先進的なEUVリソグラフィー機のコア技術については、フォトレジスト原料、EUV極端紫外線光源など、まだ実験室での基礎研究開発段階にあり、いつ成熟段階まで開発され、商業的に利用できるようになるかは、まだ大きな未知数です。

つまり、オランダ政府が輸出禁止に同意すれば、高度なプロセスを採用したハイエンドチップは言うまでもなく、ほとんどの車載グレードチップや一部のコンシューマー向けチップなど、 7nmを超えるプロセスを採用したチップでさえも、他者に支配される運命に直面することになる。

さて、ここで重要な疑問が生じます。

オランダのASMLの姿勢は？

ブルームバーグが報じたニュースによると、オランダ政府はASMLのDUVリソグラフィー装置の中国への輸出に対する追加制限にはまだ同意していない。

一方、オランダのマルク・ルッテ首相は最近、中国との貿易関係の変化に反対する姿勢を公に表明した。

ASMLについては、当局者からまだ実質的な回答はないものの、同社のCEOであるヴェニンク氏も次のような態度を表明している。

中国へのDUVリソグラフィー装置の輸出禁止に反対します。

その理由は、DUVリソグラフィー装置がすでに「成熟した」チップ製造装置だからです。

技術の独立性という点では、ASMLはDUVリソグラフィー技術に自信を持っています。ASMLは早くも2003年に独自に開発したDUVリソグラフィー装置を発売し、それを活用して世界のチップ製造業界の巨人となりました。

ASMLのEUV技術は、米国とインテルが主導するEUV LLCアライアンスと密接に結びついています。

そのため、前回のEUVリソグラフィー装置の輸出禁止とは異なり、ASMLはDUVリソグラフィー装置を中国に輸出するのに米国からの許可を必要としません。